|
|
[ На предыдущую главу]
Введение
Химическое осаждение из газовой фазы ( Chemical Vapor Deposition - CVD) в последние 10-15 лет находит все большее применение для получения широкого диапазона материалов [1]. Это уникальный, гибкий и достаточно экономичный способ молекулярного формирования, т.е. получения материалов путем контролируемого осаждения вещества в виде отдельных атомов или молекул из химически активной газовой смеси, которую термически активируют. Общей характерной чертой молекулярного формирования осадков с заданными свойствами является возможность получения материалов необходимой плотности, толщины и состава [1]. Изучению химического газофазного осаждения молибдена (CVD-процесса) из гексакарбонила молибдена посвящено незначительное число работ. И в большинстве из них Мо осаждался на непористом теле (металлические трубки, нити, пластины и т.д.) [2, 3].
Данная работа посвящена изучению влияния основных параметров процесса химического осаждения Мо из паров гексакарбонила на характер осаждения Мо на пористую керамическую подложку и выбору рациональных условий, необходимых для формирования анизотропной пористой структуры Мо-керамических мембран.
Из различных публикаций известно, что Мо проявляет высокие адгезионные свойства к керамическим материалам и обладает интересными химическими, фотохимическими [4] и адсорбционно-каталитическими свойствами [5], изучении которых до сих пор практически не начато.
[ На следующую главу] [На Содержание]
Copyright ї
|
|
|
