|
|
[ На предыдущий раздел]
1.4. Создание тонких селективных слоев подбором условий
облучения тяжелыми ускоренными ионами
В одном из таких способов ( рис. 6) предлагается вести двойное облучение пленки. На первой стадии облучение проводится через металлическую маску с отверстиями. При этом условия облучения подбирают таким образом, чтобы длина пробега ускоренных ионов в массе полимера была меньше, чем толщина пленки, а доза облучения обеспечивала бы полное вытравливание травителем (щелочью) материала пленки под отверстиями в маске на глубину, равную длине пробега ионов (стадия получения закрытых пор в форме 'колодца'). Затем в образующемся после такой обработки тонком полимерном слое формируется открытая система пор за счет дополнительного облучения всего полимерного слоя ионами с дополнительным травлением образовавшихся треков [14].
Схема и микрофотография таких анизотропных трековых мембран с толщиной селективного слоя представлены на рис. 6 и 7.
[ На следующий раздел] [На Содержание]
Copyright ї
|
|
|
