Списки объектов по подразделениям

НОЦ НТ-94

• 

  Сверхвысоковакуумный нанотехнологический комплекс НТК-4 НАНОФАБ-100

  Производитель: НТ-МДТ, г. Зеленоград

  Место расположение: 113 ауд., 14 корп.

  Назначение:
  Локальное травление поверхности пластин металлов, полупроводников и диэлектриков размером до 100х100 мм сфокусированным ионным пучком с разрешением до 10 нм и рабочим полем до 400х400 мкм. Установка используется для создания микро и наноструктур в любых материалах подложки. Создание микро и наноструктур для нанофотоники и микросистемной техники, наносенсорики.

  Основные технические характеристики:
  Максимальный размер записываемой топологии 400х400 мкм.
  Разрешение максимальное 10 нм.

• 

  Растровый электронный микроскоп FEI Quanta 200

  Производитель: FEI

  Место расположение: 113 ауд., 14 корп.

  Назначение:
  Исследование поверхности пластин и сколов с разрешением до 1 нм, проведение электронно-лучевой литографии. Прибор используется для исследования топологии наноматериалов и изучения физических свойств на наноуровне, также приставка электронной литографии позволяет использовать микроскоп для изготовления наноструктур. Исследование топологии микро- и наноструктур, создание наноструктур для нанофотоники и микросистемной техники, наносенсорики.

  Основные технические характеристики:
  Максимальное разрешение 3.2 нм.

• 

  Сканирующий спектрофотометр Shimadzu UV-2450PC

  Производитель: Shimadzu

  Место расположение: 205 ауд., научный корп.

  Назначение:
  Измерение оптических спектров пропускания и поглощения жидких и твердых образцов в диапазоне 190 - 1100 нм с разрешением 0,05 - 0,5 нм. Прибор используется для исследований в области нанофотоники и исследования наноматериалов. Исследование спектров пропускания и поглощения для определения оптических свойств материалов.

  Основные технические характеристики:
  Максимальное спектральное разрешение 0.5 нм.

• 

  ИК Фурье-спектрометр Shimadzu IRPrestige-21

  Производитель: Shimadzu

  Место расположение: 205 ауд., научный корп.

  Назначение:
  Измерение оптических спектров пропускания, отражения и поглощения жидких и твердых образцов в диапазоне 800 - 25000 нм с разрешением 0,5 - 20 нм. Прибор используется для исследований в области нанофотоники и исследования наноматериалов. Исследование спектров пропускания и поглощения для определения оптических свойств материалов.

  Основные технические характеристики:
  Максимальное спектральное разрешение 0.5 нм.

• 

  Универсальный СЗМ комплекс Интегра-Томо

  Производитель: НТ-МДТ, г. Зеленоград

  Место расположение: 113 ауд., 14 корп.

  Назначение:
  Исследования поверхности пластин диаметром до 40 мм с разрешением до 0,2 - 0,3 нм методами атомно-силовой и туннельной микроскопии, измерение шероховатости. Прибор используется для определения топологии поверхности наноматераилов и изучения ее физических свойств на наноуровне. Исследование топологии микро и наноструктур наноматериалов и функциональных наноустройств.

  Основные технические характеристики:
  Максимальное латерально разрешение До 5 нм.

• 

  Установка магнетронного напыления ЭТНА-100-МТ

  Производитель: НТ-МДТ, г. Зеленоград

  Место расположение: 14 корп.

  Назначение:
  Установка используется для получения функциональных нанопокрытий из различных материалов с помощью магнетронного распыления материалов мишеней металлов, диэлектриков и полупроводников в плазме постоянного тока в инертном газе. Нанесение многослойных покрытий. Получение нанопокрытий.

  Основные технические характеристики:
  Точность нанесения покрытий 1 нм.

• 

  Установка плазмохимического травления и осаждения ЭТНА-100-ПТ

  Производитель: НТ-МДТ, г. Зеленоград

  Место расположение: 14 корп.

  Назначение:
  Плазмохимическое травление и очистка поверхности пластин полупроводников и диэлектриков диаметром до 100 мм, удаление фоторезистивных масок. Установка используется для получения микро и наноструктур с помощью плазмохимического травления. Получение микро и наноструктур для создания элементов нанофотоники, наносенсорики и микросистемной техники.

  Основные технические характеристики:
  Максимальная скорость травления кремния 7 мкм в минуту

• 

  Эллипсометр Woollam V-VASE

  Производитель: J.A. Woollam Co.

  Место расположение: 205 ауд., научный корп.

  Назначение:
  Измерение отражения и пропускания пластин в спектральном диапазоне 250 - 1700 нм при углах падения 15? - 89?, измерение диаграммы рассеяния излучения с произвольной поляризацией. Прибор используется для исследований в области нанофотоники и исследования наноматериалов. Исследование спектров пропускания и поглощения, оптических констант и т.п., для определения оптических свойств материалов.

  Основные технические характеристики:
  Максимальное разрешение определения толщины оптических покрытий тонких пленок 1 Ангстрем

• 

  ИК Фурье-спектрометр Bruker Tensor 27 совмещенный с ИК микроскопом Hyperion 1000

  Производитель: Bruker Corporation

  Место расположение: 113 ауд., 14 корп.

  Назначение:
  Измерение оптических спектров пропускания и отражения в диапазоне 1330 - 27000 нм, по всей площади образца или в локальной области с помощью совмещенного микроскопа. Прибор используется для исследований в области нанофотоники и исследования наноматериалов. Исследование спектров пропускания и поглощения для определения оптических свойств материалов.

  Основные технические характеристики:
  Максимальное спектральное разрешение 1 нм.

• 

  Интерферометр белого света WLI-DMR

  Производитель: Институт Фраунгофера, г. Йена, Германия

  Место расположение: 14 корп.

  Назначение:
  Исследования поверхности пластин с разрешением до 0,2 - 0,3 нм по вертикали и до 0,4 мкм в латеральной плоскости с помощью интерферометрии белого света, измерение шероховатости. Прибор используется для определения топологии поверхности микро и наноструктур без прямого физического контакта с исследуемым образцом.

  Основные технические характеристики:
  Максимальное разрешение вдоль вертикальной оси 0.2 нм.