Документ взят из кэша поисковой машины. Адрес оригинального документа : http://www.chemport.ru/data/chemipedia/article_738.html
Дата изменения: Unknown
Дата индексирования: Tue Apr 12 05:36:03 2016
Кодировка: Windows-1251

Поисковые слова: легирование
ГАЛЛИЯ ФОСФИД
новости бизнеса
компании и предприятия
нефтехимические компании
продукция / логистика
тендеры / аналитика
торговый центр
ChemIndex
новости науки
работа для химиков
химические выставки
лабораторное оборудование
химические реактивы

Новые бизнес-проекты
расширенный поиск
каталог ресурсов
электронный справочник
авторефераты / книги
форум химиков
подписка / опросы
проекты / о нас

реклама на сайте
контакты
Магазин химических реактивов
поиск

главная > справочник > химическая энциклопедия:

ГАЛЛИЯ ФОСФИД


выберите первую букву в названии статьи: А Б В Г Д Е Ж З И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Ц Ч Ш Щ Э Ю Я

ГАЛЛИЯ ФОСФИД GaP, оранжевые или зеленовато-желтые кристаллы с алмазным блеском; решетка кубическая типа сфалерита (а = 0,54495 нм); т. пл. 1790њС- плотн. 4,1297 г/см3, жидкого 4,6 г/см3 (1790 њС); Сpo 44,0 Дж/(моль*К); -102,6 кДж/моль, 122,4 кДж/моль; So298 51,9 Дж/(мол*К); температурный коэф. линейного расширения 5,78*10-6 К-1; теплопроводность 110 Вт/(м*К) при 27 њС; 10,2. Полупроводник. при 27 њС ширина запрещенной зоны 2,25 эВ; подвижность электронов 300 см2/(В*с), дырок 150 см2/(В*с).

галлия фосфид устойчив к действию кислорода воздуха до ~ 700 њС, не взаимод. с водой. практически не реагирует с H2SO4 и соляной кислотой, медленно взаимод. при нагр. с азотной и фтористоводородной к-тами, царской водкой. разлагается растворами щелочей при нагревании с выделением РН3.

В виде плотного слитка GaP получают сплавлением Ga с Р под давлением паров Р, в виде пористого слитка - действием РН3 на расплав Ga. Мон.кристаллы выращивают методами зонной плавки или вытягиванием по Чохральскому из-под флюса В2О3 под давлением Аг, небольшие монокристаллы-из растворов GaP в расплаве Ga. Порошкообразный GaP получают восстановлением GaPO4 водородом или СО при 800-1000 њС. Эпитаксиальные пленки GaP наносят аналогично пленкам галлия арсенида. Для легирования монокристаллов и пленок GaP используют добавки Те, Se, S, Sn, Zn, Cd, Ge.

GaP-полупроводниковый материал для светодиодов, солнечных батарей, датчиков Холла, оптических фильтров и др.

Лит.: [Марина Л. И, На шсльски и А. Я.], Фосфид галлия, М., 1965; Фосфид галлия, Киш., 1969. П.И.Федоров.




выберите первую букву в названии статьи: А Б В Г Д Е Ж З И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Ц Ч Ш Щ Э Ю Я


Все новости




Новости компаний

Все новости


Rambler's Top100
© ChemPort.Ru, MMII-MMXVI
Контактная информация